Dornfeld, David A.: Integrated Modeling of Chemical Mechanical Planarization for Sub-Micron IC Fabrication

Ein wissenschaftliches Werk, das die komplexe Chemisch‑Mechanische Planarisierung in der Halbleiterindustrie von subnanometer‑Partikeln bis zur Wa ...

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Marke
Springer
MPN
Springer 175 black & white illustrations
ISBN
Springer 364206115X

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