Le transistor CMOS: la course vers le Nanomonde...: Précipitation du B dans le Si implanté et redistribution du B et Pt lors de l'inter-diffusion réactive dans les films minces Ni/Si

Ein wissenschaftliches Werk, das die Präzipitation von Bor in implantiertem Silizium und die rekursive Redistribution von B und Pt bei der interdiffu ...
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Le transistor CMOS: la course vers le Nanomonde..., Fachbücher von D. Mangelinck, O. Cojocaru-Mirédin, D. Blavette
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6131548056

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